9 сентября по местному времени генеральный директор Intel Киссинджер объявил, что инвестирует 20 миллиардов долларов в строительство нового крупного завода по производству пластин в Огайо, США.Это часть стратегии Intel IDM 2.0.Весь инвестиционный план достигает 100 миллиардов долларов.Ожидается, что новая фабрика будет запущена в массовое производство в 2025 году. В то время процесс «1,8 нм» вернет Intel на позицию лидера в области полупроводников.
С тех пор, как Киссинджер стал генеральным директором Intel в феврале прошлого года, он активно продвигал строительство заводов в Соединенных Штатах и по всему миру, из которых в Соединенные Штаты было инвестировано не менее 40 миллиардов долларов США.В прошлом году он инвестировал 20 миллиардов долларов США в Аризону, чтобы построить фабрику по производству вафель.На этот раз он также инвестировал 20 миллиардов долларов США в штат Огайо, а также построил новый завод по герметизации и испытаниям в Нью-Мексико.
Intel инвестирует еще 20 миллиардов долларов в строительство двух заводов по производству чипов.Король технологии «1,8 нм» возвращается
Завод Intel также является крупным заводом по производству полупроводниковых микросхем, недавно построенным в Соединенных Штатах после принятия законопроекта о субсидиях на производство микросхем в размере 52,8 миллиарда долларов США.По этой причине на церемонии открытия также присутствовал президент Соединенных Штатов, а также губернатор штата Огайо и другие высокопоставленные чиновники местных департаментов.
Intel инвестирует еще 20 миллиардов долларов в строительство двух заводов по производству чипов.Король технологии «1,8 нм» возвращается
Производственная база микросхем Intel будет состоять из двух заводов по производству полупроводниковых пластин, на которых может разместиться до восьми заводов и вспомогательных систем экологической поддержки.Он занимает площадь почти в 1000 акров, то есть 4 квадратных километра.Это создаст 3000 высокооплачиваемых рабочих мест, 7000 рабочих мест в строительстве и десятки тысяч рабочих мест для сотрудничества в цепочке поставок.
Ожидается, что эти две фабрики по производству вафель будут запущены в массовое производство в 2025 году. Intel не упомянула конкретный уровень процесса на фабрике, но Intel ранее заявляла, что освоит процесс ЦП 5-го поколения в течение 4 лет и будет массово производить 20a. и 18а два процесса генерации в 2024 году. Следовательно, завод здесь должен к тому времени производить и процесс 18а.
20a и 18a — это первые в мире процессы обработки микросхем, которые достигли уровня EMI, эквивалентного 2-нм и 1,8-нм техпроцессам друзей.Они также запустят две технологии Intel Black Technology: ленточный FET и powervia.
Согласно Intel, ленточная подача — это реализация Intel затвора вокруг транзисторов.Это станет первой совершенно новой архитектурой транзистора с тех пор, как компания впервые запустила FinFET в 2011 году. Эта технология увеличивает скорость переключения транзистора и обеспечивает такой же управляющий ток, что и структура с несколькими ребрами, но занимает меньше места.
Powervia — это уникальная и первая в отрасли сеть обратной передачи электроэнергии Intel, которая оптимизирует передачу сигнала, устраняя необходимость в источнике питания и
Время публикации: 12 сентября 2022 г.